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Masks.
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张天骐
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1.
Photomask and next-generation lithography mask technology XV:16-18 April 2008, Yokohama, Japan
订购中
(含光盘)
著者:
Toshiyuki Horiuchi
editor.
出版社:
SPIE
出版日期: 2008.
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7-532/P757/2008:2
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2.
Photomask and next-generation lithography mask technology XV:16-18 April 2008, Yokohama, Japan
订购中
(含光盘)
著者:
Toshiyuki Horiuchi
editor.
出版社:
SPIE
出版日期: 2008.
文献类型:
图书 , 索书号:
TN305.7-532/P757/2008:1
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3.
铁面人
已借21次.
订购中
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著者:
迪马
出版社:
大连理工大学出版社
出版日期: 2008
文献类型:
图书 , 索书号:
H319.4:I565/3371
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4.
Photoshop蒙版与合成
已借3次.
订购中
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著者:
伊斯曼
杜根
波尔图
出版社:
人民邮电出版社
出版日期: 2016
文献类型:
图书 , 索书号:
TP391.413/2246-1
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5.
Giovanni Gastel:maschere e spettri
订购中
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著者:
Gastel
Giovanni.
出版社:
Skira
出版日期: 2009.
文献类型:
图书 , 索书号:
J433/G255
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6.
集成电路版图设计
订购中
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著者:
C. 塞因特
Christopher Saint
J. 塞因特
Judy Saint
出版社:
清华大学出版社
出版日期: 2004
文献类型:
图书 , 索书号:
TN402/3162
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著者简介
7.
帝国变脸:贝拉克·奥巴马传奇
已借13次.
订购中
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著者:
杨道金
出版社:
人民日报出版社
出版日期: 2009
文献类型:
图书 , 索书号:
K837.127/2877-8
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著者简介
8.
总经理的面具:掌握管理的情境
已借1次.
订购中
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著者:
叶匡时
出版社:
社会科学文献出版社
出版日期: 2004
文献类型:
图书 , 索书号:
F270/6076-1
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内容简介
著者简介
9.
集成电路掩模设计:基础版图技术
已借2次.
订购中
(含光盘)
著者:
C. 塞因特
J. 塞因特
出版社:
清华大学出版社
出版日期: 2006
文献类型:
图书 , 索书号:
TN402/3162-3
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内容简介
著者简介
10.
Microlithography:science and technology *511
订购中
(含光盘)
著者:
edited by Kazuaki Suzuki
Bruce W. Smith.
出版社:
CRC Press
出版日期: c2007.
文献类型:
图书 , 索书号:
TN41/M626/=2
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